Gigaphoton開始量產最新機型KrF光源「G60K」

栃木縣小山市–(BUSINESS WIRE)–(美國商業資訊)–半導體微影光源製造商 Gigaphoton株式會社(總公司: 栃木縣小山市;總裁:浦中克己)宣布開始量產新型KrF曝光機用光源「G60K」。 在全球半導體依舊短缺的情況下,受到用於RF通信處理和車載半導體等40nm前成熟節點 (node) 的半導體需求大增,以及採用3D NAND生產技術後層數的增加使容量得以擴大,預計直到2023年為止,KrF微影需求將增加240%(與2019年相比)。* 自從2020年11月出貨以來,受到廣大用戶肯定的Gigaphoton新型KrF微影光源G60K,為了回應大量的需求,已於今年11月開始量產。G60K的最大特徵在於,提升業界所追求的運作率和提供環境永續性。透過60瓦高輸出以提升曝光機處理能力,同時藉由提升模組耐久性來降低維修機率,以實現運作率的提高。改良後的新型電源,可減低超過5%的耗電量,為用戶提供永續性的同時還可降低成本。此外,G60K平台最多可擴充到輸出90瓦,還可因應後續擴增總處理能力 (throughput) 的需求。 Gigaphoton總裁兼CEO浦中克己表示:「G

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